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    要曝光这样的芯片，必须采用一种特殊的光源，也就是极紫外光。

    它的波长只有13.5纳米，是可见光波长的几十分之一。

    换句话说就是波长越短，雕刻出来的电路越精细，芯片的制程也就越短。

    极紫外光也是用于7nm、5nm、2nm以下先进制程的紫外线波长。

    例如后世最尖端的荷兰阿斯麦光刻机。

    它就是采用极紫外光，所以它能制造出每平方毫米可容纳3.33亿个晶体管的2nm芯片。

    可总结来说，阿斯麦的这台高端光刻机是全球经济化的集大成产品。

    它有超过10万个零部件，并且涉及到5000多个供应商。

    其中光源设备来自丑国，镜头来自德意志蔡司，光学技术由霓虹提供，且都是最最尖端的技术。

    比如高度精密的光学镜头，它是光刻机核心部件之一。

    由德意志光学大师卡尔蔡司制造，号称宇宙中最光滑的人造物体，是衡量一个宇宙文明高度的标志。

    说白了，可以把阿斯麦这台高端光刻机看成是集半个人类文明的科技结晶，至于为什么说是半个，因为少了华夏。

    这也是为什么赵阳并没有直接拿出后世最前沿的光刻机出来。

    毕竟路要一步步走，饭要一口口吃，稳扎稳打才能走的更远！

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    “这部位零件叫恒温加热台，主要负责光刻工艺中的前烘和后烘。”

    “这台部件叫蚀刻机，光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分，就形成了集成电路。”

    赵阳主要是说给非半导体领域的专家院士听，给他们介绍一下，以后还要协助合作呢。

    “这部位叫匀胶机，主要用作光刻胶涂敷，其实就是一个可以控制转速的平台，把硅片吸附在中间那个平台上，滴上光刻胶，高速旋转甩开就可以了。”

    “这个叫掩模版，光刻的精度就是取决于它，掩模上的图案也决定了芯片的电路结构和功能，掩模的制造也十分复杂，不过半自动化下，良品率能有七层，还算不错。”

    “这是汞灯，这是定时曝光系统、这是载片台、这是显微镜、冷却系统（液氮）、配套甩胶机、透镜组、光刻胶、显影液、烘胶台、配套清洗间、废液废气处理回收系统、黄光灯管....”

    赵阳在给大家伙大致的讲解了这台光刻机的情况后，跟着又道：“这台光刻机是半自动操作，需要技术人员配合进行，下面我将实操生产一枚芯片，请大家集中注意力观看！”

    光刻机根据不同的发展阶段也分为手动、半自动、全自动。

    手动光刻机指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的x轴，y轴和t角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。

    半自动光刻机指的是对准可以通过电动轴根据CCd进行定位调谐，相比手动，精度得到了大幅度提升。

    自动光刻机指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，其执行精度毫无疑问远超前两者。

    赵阳拿出的这台光刻机是属于半自动的。

    虽说第四代计算机也拿出来了，
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